Análise crítica de um método para implementação das normas ISO 9000 em pequenas e médias empresas brasileiras

Esta dissertação apresenta a análise crítica da aplicação de um método utilizado para implementação da Norma ISO Série 9000. Este método, denominado Bremen Quality Management (BQM), foi desenvolvido na Alemanha, onde vem sendo utilizado com sucesso junto a pequenas e médias empresas (PMEs). O objetivo principal do presente trabalho é analisar se este método também é adequado às necessidades das PMEs brasileiras. O trabalho inicia-se com uma revisão bibliográfica destinada a identificar as dificuldades enfrentadas pelas PMEs durante o processo de implementação da ISO 9000. Foram estudados também métodos potencialmente comparáveis ao BQM utilizados por algumas instituições atuantes na área dos Sistemas da Qualidade, tais como SEBRAE-RS e FUNDATEC-RS. Devido a uma questão de segredo comercial, a especificação formal do Método BQM não se encontra publicamente acessível, pelo que, num segundo momento, foi necessário reunir as informações disponíveis sobre o mesmo de modo a possibilitar a construção de documentação relacionada com a sua formalização. A análise do Método BQM foi realizada a partir da implementação da NBR ISO 9001 em uma empresa de médio porte localizada no Estado do Rio Grande do Sul, utilizando-se para isso a pesquisa participante.A sua implementaçãofoi possível devido à inclusãodessa empresa,bem como da UniversidadeFederaldo Rio Grandedo Sul, num projeto de pesquisa gerenciadopela instituiçãoestrangeiraque criouo MétodoBQM. Pela análise realizada, pode-se constatar que, apesar das oportunidades de melhorias identificadas, o método BQM pode auxiliar as PMEs brasileiras na implementação da ISO 9000. Por fim, são propostas alterações no método estudado, com a finalidade de melhorar a sua adequação às necessidades das PMEs brasileiras.

Influência de bolhas de hélio e da microestrutura sobre a evolução térmica de filmes de alumínio implantados com cobre

Este trabalho apresenta os resultados de um estudo sistemático sobre as influências do tamanho de grão de filmes finos de Al e da implantação de íons de He sobre a evolução térmica de distribuições de átomos de Cu e formação de precipitados de Al-Cu. Filmes finos de Al depositados sobre substrato de SiO2/Si através de dois processos diferentes foram implantados com íons de Cu+ e He+ produzindo uma solução sólida supersaturada de Al-Cu (≈ 2,5 a 3,5 at. %) e nano-bolhas de He. Os valores de energia dos íons foram escolhidos de tal forma a produzirem uma camada rica em Cu e He na região a aproximadamente 100nm da superfície. Tais filmes foram tratados termicamente em alto-vácuo nas temperaturas de 200ºC e 280ºC por tempos de 0,5h e 2h. Os filmes foram analisados por Retroespalhamento Rutherford, para determinação do perfil de concentração dos átomos de Cu, e por Microscopia Eletrônica de Transmissão, para determinação da microestrutura do Al e dos sistemas de nano-partículas Al-Cu e Al-He. Os resultados experimentais mostraram que a evolução térmica da distribuição dos átomos de Cu e a formação de precipitados de Al-Cu são significativamente afetadas pela configuração e tamanho de grão do filme de Al e pelas implantações de He. O presente estudo mostrou que existe uma forte correlação entre o fluxo de vacâncias e a estabilidade da microestrutura de filmes finos de Al (Al/SiO2/Si) implantados com íons de Cu+ e He+ e tratados termicamente. A possibilidade de controlar os fluxos de vacâncias através de configurações da microestrutura dos filmes de Al é, portanto, um tema de grande interesse tecnológico relacionado a durabilidade das interconexões metálicas de dispositivos microeletrônicos.