Estudo do índice crioscópico do leite tipo B "in natura" produzido na bacia leiteira do Vale do Taquari, RS.

O índice crioscópico é um dos parâmetros analíticos de precisão utilizados para determinar a qualidade físico-química do leite. É um valor diretamente ligado ao extrato seco do leite, mais especificamente em relação a presença, maior ou menor, de lactose e cloretos. A adição de água ao leite, como mecanismo de fraude, altera os valores do índice crioscópico. Em virtude disto, o mesmo é utilizado como um dos critérios para desclassificação de leite. O problema se estabelece quando os padrões determinados em legislação não condizem com as características reais do leite produzido. O presente trabalho objetivou comparar os resultados do índice crioscópico do leite tipo B “in natura” da bacia leiteira do Vale do Taquari com o valor estabelecido na legislação vigente, bem como observou as alterações deste parâmetro ao longo de um ano. O projeto foi desenvolvido no período de março de 2001 a fevereiro de 2002, com a participação de 10 propriedades produtoras de leite tipo B, onde as coletas foram realizadas mensalmente, perfazendo um total de 573 amostras no período. Os resultados analíticos foram obtidos mediante as análises de acidez, temperatura, densidade, gordura, extrato seco total (EST), extrato seco desengordurado (ESD) e índice crioscópico (IC). Quanto ao comportamento do índice crioscópico, o diagnóstico confirmou a necessidade imprescindível da implementação de parâmetros legais regionais, respeitando as características específicas de cada região. A pesquisa apresentou para o leite tipo B “in natura” do Vale do Taquari, um índice crioscópico médio de –0,537 °H, enquadrando-se no parâmetro estabelecido pela Instrução Normativa Nº 51 de 18/09/02, ou seja, máximo de –0,530 °H. Este índice também apresentou Valor médio mais baixo nos meses de junho e julho e as variações mensais individuais foram significativas. Estes comportamentos indicam que a alimentação ofertada ao rebanho influencia nestas alterações.

Estudo de difusão de impurezas introduzidas por implantação iônica em polímeros

No presente trabalho estudamos de forma sistemática a difusão de impurezas em filmes poliméricos usando as técnicas de implantação iônica e análise por feixe de íons, retroespalhamento Rutherford e de perfil de profundidade por nêutrons. Com este propósito foram implantadas e realizadas medidas em diferentes intervalos de temperatura para diferentes sistemas como (Au, Ag) no fotoresiste AZ1350, (Bi, Eu, Er, B) no fotoresiste S1813 e (Xe, Kr) no termoplástico Poliestireno. Como resultado mostrou-se que para implantações em baixas energias e fluências Au, Ag seguem uma difusão regular. Os valores obtidos para os parâmetros de difusão são semelhantes indicando assim um mecanismo de difusão verdadeiramente atômico. É mostrado também que com o aumento da fluência, devido aos danos gerados pelo processo de implantação, átomos são aprisionados na região implantada levando a um mecanismo de difusão por aprisionamento e liberação. Contudo, mostrou-se que a energia de ativação indica que este processo de difusão ainda é de caráter atômico. Da análise dos valores de D observamos um efeito de massa associado onde D(T)Au < D(T)Ag, pois a massa de Ag é duas vezes menor que a de Au. Para os elementos como Bi, Eu e Er, considerados quimicamente mais ativos que Au, não foram observados efeitos de possíveis ligações químicas nestes sistemas. Valores de energia de ativação de Bi apresentaram-se próximos aos de Au para as fluências de implantação aplicadas, o mesmo ocorrendo para a difusão de Er e Eu. O B mostrou que depois de implantado difunde durante ou imediatamente após a implantação. Difusão esta dada na presença de armadilhas saturáveis induzidas por radiação, indo além da difusão térmica, por ordem de magnitude de ≈10-12, contra ≈10-13 cm2s-1, respectivamente. Quanto a Xe e Kr, observou-se que estes também difundem durante ou imediatamente após a implantação, e que a fração do gás retido no pico depende da fluência implantada. Implantações em baixa temperatura (80 K) e posteriores análises foram determinados in situ por RBS na faixa de 80 a 300 K. Verificou-se que a difusão segue um perfil regular. Em cada caso mostrou-se que a dependência dos valores de D como função da temperatura segue um comportamento tipo Arrhenius, com valores de energia de ativação para os metais (Au, Ag, Bi) entre 580 e 680 meV, para os lantanídeos (Er, Eu) valores entre 525 a 530 meV, para o semi-metal (B) 100 meV, e finalmente para os gases nobres Kr e Xe entre 40 e 67 meV.