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em Université de Montréal, Canada
Resumo:
Ce présent mémoire est animé par une forte conviction : les frontières disciplinaires entre les sociologues et les écrivains ne doivent pas se transmuer en barbelés obstruant un éclairage de sens renouvelé sur la réalité sociale. Alors qu’au tournant du siècle dernier, le roman réaliste et la sociologie allemande se sont mutuellement inspirés, au fil du temps les canaux de communication se sont progressivement brouillés. Notre démarche consiste donc à renouer avec la tradition du monde germanophone à l’orée du 20e siècle, période au cours de laquelle la sociologie émerge comme discipline propre. Plus précisément, nous chercherons à faire converser les deux régimes d’écriture afin d’une part, d’explorer les vertus cognitives de la littérature pour la sociologie et d’autre part de mieux comprendre comment les hommes contemporains aux premiers sociologues entrevoyaient l’époque des temps modernes. Pour ce faire, nous nous appuierons sur la sociologie de Max Weber (1864-1920), un des pères fondateurs de la discipline, ainsi que sur l’analyse de trois romans réalistes, signés par deux romanciers germanophones du début du 20e siècle, c’est-à-dire Joseph Roth (1894-1939) et Thomas Mann (1875-1955).
Analyse des processus de dérive lors de la gravure profonde du silicium dans des plasmas SF6 et C4F8
Resumo:
L’objectif de ce mémoire de maîtrise est de développer des outils de diagnostics non-invasifs et de caractériser in-situ les dérives de procédé dans un réacteur industriel utilisé en production pour la gravure profonde du silicium par le procédé Bosch. Ce dernier repose sur l’alternance d’un plasma de SF6 pour la gravure isotrope du Si et d’un plasma de C4F8 pour la passivation des parois dans l’optique d’obtenir des tranchées profondes et étroites. Dans un premier temps, nous avons installé une sonde courant-tension sur la ligne de transmission du signal rf au porte-substrat pour l’étude de son impédance caractéristique et un spectromètre optique pour l’étude de l’émission optique du plasma. Nos travaux ont montré que l’évolution temporelle de l’impédance constitue un excellent moyen pour identifier des changements dans la dynamique du procédé, notamment une gravure complète de la photorésine. De plus, à partir des spectres d’émission, nous avons pu montrer que des produits carbonés sont libérés du substrat et des parois lors de l’alternance passivation/gravure et que ceux-ci modifient considérablement la concentration de fluor atomique dans le plasma. Dans un second temps, nous avons développé un réacteur à « substrat-tournant » pour l’analyse in-situ des interactions plasma-parois dans le procédé Bosch. Nos travaux sur ce réacteur visaient à caractériser par spectrométrie de masse l’évolution temporelle des populations de neutres réactifs et d’ions positifs. Dans les conditions opératoires étudiées, le SF6 se dissocie à près de 45% alors que le degré de dissociation du C4F8 atteint 70%. Le SF6 est avant tout dissocié en F et SF3 et l’ion dominant est le SF3+ alors que le C4F8 est fragmenté en CF, CF3 et CF4 et nous mesurons plusieurs ions significatifs. Dans les deux cas, la chaîne de dissociation demeure loin d’être complète. Nous avons noté une désorption importante des parois de CF4 lors du passage du cycle de passivation au cycle de gravure. Un modèle d’interactions plasmas-parois est proposé pour expliquer cette observation.