Uranium à Sept-Îles : ethnographie d'un refus. Essai de résistance populaire.

Ce mémoire de maîtrise traite d’un phénomène social critique qui a gagné en importance au Québec : la montée des groupes de résistance populaire contre des projets d’exploitation des ressources naturelles. À partir d’une étude de cas, l’auteur tâche ici d’approfondir les questions relatives à ces luttes collectives tout en mettant en lumière les diverses modalités d’engagement qui, par leurs registres et leurs compositions en « systèmes-experts », se répercutent dans l’espace public tout en transformant, d’une certaine manière, l’arène politique. Ces dynamiques des mouvements de résistance tendent également à s’infléchir en amont des projets de développement, pour se matérialiser en aval, soit dès les premières phases d’appropriation territoriale, c’est-à-dire les premiers travaux exploratoires comme tels. Cette enquête de terrain se focalise sur ces enjeux. En prenant comme observatoire le projet de Terra Ventures à Sept-Îles, en région nord-côtière, concernant un projet d’exploration uranifère, l’auteur insiste sur les multiples références collectives qui sont autant de perspectives pour comprendre ce phénomène. À travers l’étude de cette résistance populaire qui s’est profilée contre ce projet d’exploration, c’est l’industrie minière au Québec, son histoire, ses mythes, et sa mémoire qui est, enfin, en trame de fond.

Étude de phase des systèmes Ni/Si-endommagé et Ni/a-Si, par XRD résolue en temps et nanocalorimétrie

Mémoire numérisé par la Division de la gestion de documents et des archives de l'Université de Montréal

Effets des recuits ultra-rapides (10^5 K/s) sur la formation des siliciures métalliques en phase solide

La synthèse de siliciures métalliques sous la forme de films ultra-minces demeure un enjeu majeur en technologie CMOS. Le contrôle du budget thermique, afin de limiter la diffusion des dopants, est essentiel. Des techniques de recuit ultra-rapide sont alors couramment utilisées. Dans ce contexte, la technique de nanocalorimétrie est employée afin d'étudier, in situ, la formation en phase solide des siliciures de Ni à des taux de chauffage aussi élevés que 10^5 K/s. Des films de Ni, compris entre 9.3 et 0.3 nm sont déposés sur des calorimètres avec un substrat de a-Si ou de Si(100). Des mesures de diffraction de rayons X, balayées en température à 3 K/s, permettent de comparer les séquences de phase obtenues à bas taux de chauffage sur des échantillons de contrôle et à ultra-haut taux de chauffage sur les calorimètres. En premier lieu, il est apparu que l'emploi de calorimètres de type c-NC, munis d'une couche de 340 nm de Si(100), présente un défi majeur : un signal endothermique anormal vient fausser la mesure à haute température. Des micro-défauts au sein de la membrane de SiNx créent des courts-circuits entre la bande chauffante de Pt du calorimètre et l'échantillon métallique. Ce phénomène diminue avec l'épaisseur de l'échantillon et n'a pas d'effet en dessous de 400 °C tant que les porteurs de charge intrinsèques au Si ne sont pas activés. Il est possible de corriger la mesure de taux de chaleur en fonction de la température avec une incertitude de 12 °C. En ce qui a trait à la formation des siliciures de Ni à ultra-haut taux de chauffage, l'étude montre que la séquence de phase est modifiée. Les phases riches en m étal, Ni2Si et théta, ne sont pas détectées sur Si(100) et la cinétique de formation favorise une amorphisation en phase solide en début de réaction. Les enthalpies de formation pour les couches de Ni inférieures à 10 nm sont globalement plus élevées que dans le cas volumique, jusqu' à 66 %. De plus, les mesures calorimétriques montrent clairement un signal endothermique à haute température, témoignant de la compétition que se livrent la réaction de phase et l'agglomération de la couche. Pour les échantillons recuits a 3 K/s sur Si(100), une épaisseur critique telle que décrite par Zhang et Luo, et proche de 4 nm de Ni, est supposée. Un modèle est proposé, basé sur la difficulté de diffusion des composants entre des grains de plus en plus petits, afin d'expliquer la stabilité accrue des couches de plus en plus fines. Cette stabilité est également observée par nanocalorimétrie à travers le signal endothermique. Ce dernier se décale vers les hautes températures quand l'épaisseur du film diminue. En outre, une 2e épaisseur critique, d'environ 1 nm de Ni, est remarquée. En dessous, une seule phase semble se former au-dessus de 400 °C, supposément du NiSi2.