Simulation de profils de gravure et de dépôt à l’échelle du motif pour l’étude des procédés de microfabrication utilisant une source plasma de haute densité à basse pression

En lien avec l’avancée rapide de la réduction de la taille des motifs en microfabrication, des processus physiques négligeables à plus grande échelle deviennent dominants lorsque cette taille s’approche de l’échelle nanométrique. L’identification et une meilleure compréhension de ces différents processus sont essentielles pour améliorer le contrôle des procédés et poursuivre la «nanométrisation» des composantes électroniques. Un simulateur cellulaire à l’échelle du motif en deux dimensions s’appuyant sur les méthodes Monte-Carlo a été développé pour étudier l’évolution du profil lors de procédés de microfabrication. Le domaine de gravure est discrétisé en cellules carrées représentant la géométrie initiale du système masque-substrat. On insère les particules neutres et ioniques à l’interface du domaine de simulation en prenant compte des fonctions de distribution en énergie et en angle respectives de chacune des espèces. Le transport des particules est effectué jusqu’à la surface en tenant compte des probabilités de réflexion des ions énergétiques sur les parois ou de la réémission des particules neutres. Le modèle d’interaction particule-surface tient compte des différents mécanismes de gravure sèche telle que la pulvérisation, la gravure chimique réactive et la gravure réactive ionique. Le transport des produits de gravure est pris en compte ainsi que le dépôt menant à la croissance d’une couche mince. La validité du simulateur est vérifiée par comparaison entre les profils simulés et les observations expérimentales issues de la gravure par pulvérisation du platine par une source de plasma d’argon.

Le périmètre métropolitain du Grand Montréal, son évolution, son encadrement et ses potentialités : le cas de la Couronne Nord

Le nouveau contexte de planification du Grand Montréal engendré par la Loi modifiant la Loi sur l’aménagement et l’urbanisme et d’autres dispositions législatives concernant les communautés métropolitaines (L.Q. 2010, c. 10) soulève un grand nombre de questions en matière d’aménagement, notamment par rapport à la gestion de l’urbanisation et plus spécifiquement en ce qui a trait à la notion de périmètre d’urbanisation. Ce nouveau contexte de planification est donc l’élément déclencheur de la présente recherche qui vise à examiner la conception du périmètre métropolitain définie dans le Plan métropolitain d’aménagement et de développement (PMAD) adopté par la Communauté métropolitaine de Montréal (CMM) et qui est entré en vigueur le 12 mars 2012, suite à l’avis favorable du gouvernement du Québec. Cette recherche vise également à examiner l’encadrement du périmètre métropolitain en fonction du contenu des schémas d’aménagement et de développement (SAD) en vigueur des cinq municipalités régionales de compté (MRC) de la Couronne Nord. Plus précisément, il s’agit d’examiner ces documents en ce qui a trait à quatre outils de planification complémentaires, soit les seuils minimaux de densité, les programmes de phasage, les plans de développement de la zone agricole et les demandes à portée collective, ceci afin d’évaluer leur présence et leur contribution à l’atteinte des objectifs poursuivis par le concept de périmètre d’urbanisation. La présente recherche a permis de conclure qu’en matière de conception, le périmètre métropolitain est un outil nettement plus stratégique, comparativement au rôle attribué à cette notion au préalable dans les schémas régionaux, et ce, même considérant le peu de complémentarité entre les périmètres régionaux et ce dernier. En matière d’encadrement, il est possible de conclure que le contexte de planification révèle une situation régionale hautement variable qui illustre le besoin d’une approche de planification commune afin d’atteindre les objectifs du périmètre métropolitain.

Analysis of HIV-1 Vpr determinants responsible for cell growth arrest in Saccharomyces cerevisiae

Affiliation: Département de microbiologie et immunologie, Faculté de médecine, Université de Montréal

Vulgaire! Pervers! Dégradant! : le film d'exploitation et le cinéma québécois

Dans l’historiographie du cinéma québécois, un certain manque est notable concernant le cinéma populaire du début des années 1970 (1968-1975). Historiens et chercheurs accordèrent peu d’importance à cette section de notre cinématographie par déni d’un type de cinéma populaire exploitant la sexualité. Ce qui fut péjorativement appelé la vague de « films de fesses » n’eut droit à aucune étude académique sérieuse et nous proposons, donc, de la revisiter afin de mieux comprendre son apparition et son existence. Dans ce dessein, nous suggérons de l’aborder sous l’angle du cinéma d’exploitation, cinéma populaire méconnu et controversé. Pour cela, nous devrons expliquer les contours de ce cinéma puisque, lui aussi, souffre d’un léger manque d’études sérieuses et approfondies. Nous ferons au premier chapitre un panorama de la norme cinématographique qu’est le cinéma hollywoodien, afin de bien cerner, au deuxième chapitre, le cinéma d’exploitation qui selon nous s’efforce d’être en constante opposition avec le cinéma mainstream. Par la suite, nous mettrons en place le contexte socio-historique et cinématographique qui permit l’apparition d’un cinéma d’exploitation québécois et nous ferons l’énumération des différents titres qui se retrouvent dans ce corpus filmique. Les chapitres IV et V présenteront les analyses de différentes œuvres qui, selon nous, récupèrent de façon partielle ou totale des éléments du cinéma d’exploitation afin de créer une résistance culturelle quant au cinéma dominant américain.

Étude de la cinétique et des dommages de gravure par plasma de couches minces de nitrure d’aluminium

Une étape cruciale dans la fabrication des MEMS de haute fréquence est la gravure par plasma de la couche mince d’AlN de structure colonnaire agissant comme matériau piézoélectrique. Réalisé en collaboration étroite avec les chercheurs de Teledyne Dalsa, ce mémoire de maîtrise vise à mieux comprendre les mécanismes physico-chimiques gouvernant la cinétique ainsi que la formation de dommages lors de la gravure de l’AlN dans des plasmas Ar/Cl2/BCl3. Dans un premier temps, nous avons effectué une étude de l’influence des conditions opératoires d’un plasma à couplage inductif sur la densité des principales espèces actives de la gravure, à savoir, les ions positifs et les atomes de Cl. Ces mesures ont ensuite été corrélées aux caractéristiques de gravure, en particulier la vitesse de gravure, la rugosité de surface et les propriétés chimiques de la couche mince. Dans les plasmas Ar/Cl2, nos travaux ont notamment mis en évidence l’effet inhibiteur de l’AlO, un composé formé au cours de la croissance de l’AlN par pulvérisation magnétron réactive et non issu des interactions plasmas-parois ou encore de l’incorporation d’humidité dans la structure colonnaire de l’AlN. En présence de faibles traces de BCl3 dans le plasma Ar/Cl2, nous avons observé une amélioration significative du rendement de gravure de l’AlN dû à la formation de composés volatils BOCl. Par ailleurs, selon nos travaux, il y aurait deux niveaux de rugosité post-gravure : une plus faible rugosité produite par la présence d’AlO dans les plasmas Ar/Cl2 et indépendante de la vitesse de gravure ainsi qu’une plus importante rugosité due à la désorption préférentielle de l’Al dans les plasmas Ar/Cl2/BCl3 et augmentant linéairement avec la vitesse de gravure.

La vérité polyphonique : la problématisation théorique et pratique de la dichotomie entre fiction et documentaire, précédé du film YT Remix

La création cinématographique de l’étudiante qui accompagne ce mémoire sous la forme d’un DVD est disponible à la Médiathèque de la Bibliothèque des lettres et sciences humaines sous le titre : YT Remix (documentaire) ; Sonorisation d'un extrait de L'homme à la caméra (D. Vertov).(http://atrium.umontreal.ca/notice/UM-ALEPH002370775)