Avaliação do risco químico no laboratório de histopatologia nos serviços de Anatomia Patológica, Citológica e Tanatológica

Vários agentes químicos são frequentemente manipulados nos Laboratórios de Anatomia Patológica. São fundamentais para o desenvolvimento de todos os procedimentos laboratoriais desenvolvidos num laboratório desta natureza. Desenvolveu-se um estudo exploratório-descritivo que apresentou como principal objectivo caracterizar a exposição dos Técnicos de Anatomia Patológica dos laboratórios de Histopatologia da região de Lisboa e Vale do Tejo aos diversos agentes químicos, através de um instrumento baseado no International Chemical Control Toolkit. Para tal, recorreu-se a um amostra de três hospitais, onde foram aplicadas, por três observadores independentes, cinco grelhas de avaliação que permitiram avaliar as condições relativas à segurança, higiene e saúde do trabalho, onde se observaram as medidas de protecção colectiva e individual, bem como o armazenamento geral e a gestão de resíduos. Foi possível constatar que apesar da existência de alguma preocupação a nível do risco de exposição química, ainda existem muitas lacunas ao nível das medidas de protecção colectiva e individual, armazenamento geral e gestão de resíduos hospitalares.

Cr2O3 thin films grown at room temperature by low pressure laser chemical vapour deposition

Chromia (Cr2O3) has been extensively explored for the purpose of developing widespread industrial applications, owing to the convergence of a variety of mechanical, physical and chemical properties in one single oxide material. Various methods have been used for large area synthesis of Cr2O3 films. However, for selective area growth and growth on thermally sensitive materials, laser-assisted chemical vapour deposition (LCVD) can be applied advantageously. Here we report on the growth of single layers of pure Cr2O3 onto sapphire substrates at room temperature by low pressure photolytic LCVD, using UV laser radiation and Cr(CO)(6) as chromium precursor. The feasibility of the LCVD technique to access selective area deposition of chromia thin films is demonstrated. Best results were obtained for a laser fluence of 120 mJ cm(-2) and a partial pressure ratio of O-2 to Cr(CO)(6) of 1.0. Samples grown with these experimental parameters are polycrystalline and their microstructure is characterised by a high density of particles whose size follows a lognormal distribution. Deposition rates of 0.1 nm s(-1) and mean particle sizes of 1.85 mu m were measured for these films. (C) 2011 Elsevier B.V. All rights reserved.