Screening for success in a visual arts program.

Abstract: Little research has been directed towards determining means of predicting success in visual arts programs. Therefore, this study attemps to profile a typical successful student in a visual arts program, namely the Illustration & Design program at Dawson College. To this end, questionnaires, designed by the researcher, served to investigate the students' reasons for choosing the program as well as provide demographic data. In addition, students' personality types were investigated by means of the online Sternberg & Wagner Thinking Styles Inventory (SWTSI) questionnaire. Using the SPSS statistical software, an analysis was done to determine whether students who offer intrinsically motivated reasons for applying to the Illustration & Design program are those who also demonstrate greater academic success. Furthermore, grounding this study in Sternberg's theory of mental self governance, students' college grades were correlated to their personality type to determine if Type I personality types perform better academically than Type II or Type III (Zhang, 2005), The participants consisted of three cohorts (128 students form semester 1, 3 and 5) of the Illustration & Design program, as well as two comparison groups, one from the Fine Arts program (24 students), and another from the Business Administration program, a non-visual arts program at Dawson College (20 students).||Résumé: Les recherches portant sur l'identification de moyens qui permettent de prédire la réussite dans les programmes d'arts plastiques sont très rares. Par conséquent, cette étude tente de dresser le profil de l'élève type qui réussit dans un programme d'arts visuels, à savoir le programme Illustration & Design au Collège Dawson. À cette fin, des questionnaires conçus par le chercheur ont servi à déterminer les raisons pour lesquelles l'élève a choisi ce programme et ont permis de fournir des données démographiques. En outre, les étudiants ont été catégorisés par type de personnalité au moyen du questionnaire Sternberg & Wagner Thinking Styles Inventory (SWTSI). Grâce au logiciel statistique SPSS, une analyse a été effectuée afin de déterminer si les élèves dont la motivation comptait beaucoup dans leur choix du programme Illustration & Design étaient aussi ceux qui affichaient un taux de réussite plus élevé. En outre, en s'appuyant sur la Théorie d'autonomie de gestion mentale de Sternberg, cette étude avait pour but de corréler les résultats scolaires des élèves à leur personnalité afin de déterminer si les étudiants du Type de personnalité I avaient de meilleurs résultats scolaires que ceux de Type II et de Type III (Zhang, 2005). Les participants étaient composés de trois cohortes (128 étudiants des 1er, 3e et 5e semestres) du programme Illustration et Design ainsi que de deux groupes témoins, un groupe de 24 élèves du programme de Techniques de l'Administration, programme en dehors des arts visuels.

Conception, caractérisation et optimisation de SPAD en technologie Dalsa HV CMOS 0.8 μm pour intégration dans un 3D-SiPM

Résumé : Les photodiodes à avalanche monophotonique (SPAD) sont d'intérêts pour les applications requérant la détection de photons uniques avec une grande résolution temporelle, comme en physique des hautes énergies et en imagerie médicale. En fait, les matrices de SPAD, souvent appelés photomultiplicateurs sur silicium (SiPM), remplacent graduellement les tubes photomultiplicateurs (PMT) et les photodiodes à avalanche (APD). De plus, il y a une tendance à utiliser les matrices de SPAD en technologie CMOS afin d'obtenir des pixels intelligents optimisés pour la résolution temporelle. La fabrication de SPAD en technologie CMOS commerciale apporte plusieurs avantages par rapport aux procédés optoélectroniques comme le faible coût, la capacité de production, l'intégration d'électronique et la miniaturisation des systèmes. Cependant, le défaut principal du CMOS est le manque de flexibilité de conception au niveau de l'architecture du SPAD, causé par le caractère fixe et standardisé des étapes de fabrication en technologie CMOS. Un autre inconvénient des matrices de SPAD CMOS est la perte de surface photosensible amenée par la présence de circuits CMOS. Ce document présente la conception, la caractérisation et l'optimisation de SPAD fabriqués dans une technologie CMOS commerciale (Teledyne DALSA 0.8µm HV CMOS - TDSI CMOSP8G). Des modifications de procédé sur mesure ont été introduites en collaboration avec l'entreprise CMOS pour optimiser les SPAD tout en gardant la compatibilité CMOS. Les matrices de SPAD produites sont dédiées à être intégrées en 3D avec de l'électronique CMOS économique (TDSI) ou avec de l'électronique CMOS submicronique avancée, produisant ainsi un SiPM 3D numérique. Ce SiPM 3D innovateur vise à remplacer les PMT, les APD et les SiPM commerciaux dans les applications à haute résolution temporelle. L'objectif principal du groupe de recherche est de développer un SiPM 3D avec une résolution temporelle de 10 ps pour usage en physique des hautes énergies et en imagerie médicale. Ces applications demandent des procédés fiables avec une capacité de production certifiée, ce qui justifie la volonté de produire le SiPM 3D avec des technologies CMOS commerciales. Ce mémoire étudie la conception, la caractérisation et l'optimisation de SPAD fabriqués en technologie TDSI-CMOSP8G.