优化研究所内部环境的初步尝试

<正>力学所成立已34年,目前职工总人数逾800人,是力学科学的综合性研究大所。它面临着课题分散、人员及设备老化、资金紧张、住房紧张等一系列问题。如何走出困境,如何进一步完善综合性研究大所的运转机制,在竞争中寻求自身的生存与发展,是有待深入讨论研究和急需解决的重要问题。近年来,力学所在这些方面也进行了初步的探索和尝试。一、适当调整内部科研组织结构,建立跨室联合研究集体,增强研究所的竞争力和自身发展能力力学所原有13个研究室,基本上是按力学分支学科划分建立起来的,主要研究领域包括爆炸力学、物理力学、磁流力学和等离子体动力学、土力学、高速气体动力学、流体力学、空气动力学、高温气体动力学、固体力学、激光流体物理、跨声速空气动力学、材料力学性质、微重力科

结构弛豫对Zr_(64.13)Cu_(15.75)Ni_(10.12)Al_(10)块体非晶合金硬度和剪切带特征的影响

通过接近玻璃转变温度的等温退火获得不同弛豫状态的Zr64.13Cu15.75Ni10.12Al10块体非晶合金样品。利用维氏显微硬度计和洛氏硬度计研究结构弛豫对合金硬度和压痕周围剪切带特征的影响规律。结果表明:在590K等温退火处理使Zr64.13Cu15.75Ni10.12Al10块体非晶合金发生焓弛豫行为,其维氏显微硬度随退火时间的延长较快增加后趋于稳定,而大载荷洛氏硬度对结构弛豫不敏感。通过洛氏压痕周围剪切带特征的研究,定量比较了结构弛豫对剪切带间距、数量的影响规律。

第13届美国复合材料学会技术年会简介

一．会议概况１．美国复合材料学会第１３届年会（Ｔｈｅ１３ｔｈＴｅｃｈｎｉｃａｌＣｏｎｆｅｒｅｎｃｅｏｆＡｍｅｒｉｃａｎＳｏｃｉｅｔｙｆｏｒＣｏｍｐｏｓｉｔｅ），于１９９８年９月２１～２３日在美国巴尔的摩（Ｂａｌｔｉｍｏｒｅ）举行，会议由马理兰大学（Ｍ...

激光熔覆大厚度Fe_(57)Co_8Ni_8Zr_(10)Si_4B_(13)非晶表层及其微结构研究

利用激光熔覆制备出1.2mm厚的Fe_(57)Co_8Ni_8Zr_(10)Si_4B_(13)大厚度非晶表层。用XRD,ES,TEM,DSC及硬度对获得的非晶表层进行了多种分析，研究了非晶合金表层的微结构与非晶形成能力。初步探讨了大厚度非晶表层的形式机制。

Freestanding optical fibers fabricated in a glass chip by femtosecond laser micromachining for lab-on-a-chip application (vol 13, pg 7225, 2005)

An erratum is presented to correct the propagation loss of the freestanding optical fibers fabricated in glass chip. (c) 2006 Optical Society of America.

Effect of hydroxyl groups on nonradiative decay of Er3+: I-4(13/2)-> I-4(15/2) transition in zinc tellurite glasses

A series of zinc tellurite glasses of 75TeO(2)-20ZnO-(5-x)La2O3-xEr(2)O(3) (x=0.02, 0.05, and 0.1 mol%) with the different hydroxl groups were prepared by the conventional melt-quenching method. Infrared spectra were measured in order to estimate the exact content of OH- groups in samples. The observed increase of the fluorescence lifetime with the oxygen bubbling time has been related to the reduction in the OH- content concentration as evidenced by IR transmission spectra. Various nonradiative decay rates from I-4(13/2) of Er3+ with. the change of OH content were determined from the fluorescence lifetime and radiative decay rates were calculated on the basis of Judd-Ofelt theory. (c) 2005 Elsevier B.V. All rights reserved.

沉积参量及时效时间对SiO2薄膜残余应力的影响

SiO2薄膜由电子束蒸发方法沉积而成。用GPI数字波面光学干涉仪测量了不同沉积条件下玻璃基底镀膜前后曲率半径的变化，并确定了SiO2薄膜中的残余应力。在其他条件相同的情况下，当沉积温度由190℃升高到350℃时，SiO2薄膜中的压应力由一156MPa增大为-289MPa。氧分压由3．0×10^-3Pa升高到13．0×10^-3Pa时，SiO2薄膜中的应力由-223．5MPa变为20．4MPa。通过对薄膜折射率的测量，发现薄膜的堆积密度随沉积条件的改变也发生了规律性的变化。应力的变化主要是由于沉积时蒸发粒子