沉积速率对热舟蒸发LaF3薄膜性能的影响

用热舟蒸发方法在不同的沉积速率下制备了LaF3单层膜,并对部分单层膜进行了真空退火。分别采用X射线衍射(XRD),Lambda 900 光谱仪和355 nm Nd∶YAG脉冲激光测试了薄膜的晶体结构、透射光谱和激光损伤阈值(LIDT),并通过透射光谱计算得到样品的折射率和消光系数。实验结果表明,增大沉积速率有利于LaF3薄膜的结晶和择优生长,可以提高薄膜的致密性和折射率,但薄膜的抗激光损伤能力有所下降;沉积速率太大,又会恶化薄膜的结晶性能,同时薄膜中产生大量孔洞,薄膜的机械强度降低,导致薄膜的折射率减小和

沉积温度对热舟蒸发MgF2薄膜性能的影响

采用热舟蒸发方法沉积了氟化镁（MgF2）材料的单层膜，沉积温度从200℃上升到350℃，间隔为50℃。测量了样品的透射率和反射率光谱曲线，进行了表面粗糙度的标定，并在此基础上进行了光学损耗及散射损耗的计算。同时对355nm波长处的激光诱导损伤阈值进行了测量。结果表明：随着沉积温度的升高，光学损耗增加;在短波长范围散射损耗在光学损耗中所占比例很小，光学损耗的增加主要由吸收损耗引起；在355nm波长处的损伤阈值变化与吸收损耗的变化趋势相关，损伤机制主要是吸收起主导作用。样品的微缺陷密度也是影响损伤阈值的一个重要因素，损伤阈值随缺陷密度的增加而降低。

Working pressure dependence of properties of Al2O3 thin films prepared by electron beam evaporation

The effects of working pressure on properties of Al2O3 thin films are investigated. Transmittance of the Al2O3 thin film is measured by a Lambda 900 spectrometer. Laser-induced damage threshold (LIDT) is measured by a Nd:YAG laser at 355nm with a pulse width of 7ns. Microdefects were observed under a Nomarski microscope. The samples are characterized by optical properties and defect, as well as LIDT under the 355 nm Nd: YAG laser radiation. It is found that the working pressure has fundamental effect on the LIDT. It is the absorption rather than the microdefect that plays an important role on the LID T of Al2O3 thin film.

LiB3O5晶体上四倍频增透膜设计

采用矢量法设计了三硼酸锂（LiB3O5，LBO）晶体上1064nm、532nm、355nm和266nm四倍频增透膜．结果表明，在1064nm、532nm、355nm和266nm波长的剩余反射率分别为0．0019％、0．0031％、0．0061％和0．0047％．根据容差分析，薄膜制备时沉积速率准确度控制在＋6．5％时，基频、二倍频、三倍频和四倍频波长的剩余反射率分别增加至0．24％、0．92％、2．38％和4．37％．当薄膜材料折射率的变化控制在＋3％时，1064nm波长的剩余反射率增大为0．18％，532nm、355nm和266nm波长分别达0．61％，0．59％，0．20％．与薄膜物理厚度相比，膜层折射率对剩余反射率的影响大．对膜系敏感层的分析表明，在1064nm和266nm波长，从入射介质向基底过渡的第二层膜厚度变化对剩余反射率的影响最大，其次是第一膜层．在532nm和355nm波长，从入射介质向基底过渡的第一和第四膜层是该膜系的敏感层．误差分析也表明，薄膜材料的色散对特定波长的剩余反射率具有明显影响，即1064nm、532nm、355nm和266nm波长的剩余反射率分别增加至0．30％、0．23％、0．58％和3．13％．

355nm增透膜的设计、制备与性能

用热舟蒸发法结合修正挡板技术制备了355 nm LaF3/MgF2增透膜,并对部分样品进行了真空退火。采用Lambda 900光谱仪测试了增透膜的低反光谱和透射光谱,并考察了其光谱稳定性;使用脉冲8 ns的355 nm激光测试了增透膜的激光损伤阈值(LIDT);采用Normarski显微镜对增透膜的表面缺陷密度和破斑形貌进行了观察。实验结果表明,制备得到的增透膜的剩余反射率较低,光谱稳定性好;真空退火对增透膜的激光损伤阈值没有改善;增透膜的破环形貌为散点形式,结合破斑深度测试表明薄膜的破坏源于薄膜和基底界面的缺陷点。JGS1熔石英基底由于有好的表面状况、固有的高激光损伤阈值和以其为基底的增透膜具有更低的表面场强,使得其上的增透膜有更高的抗激光损伤能力。