Caracterizacao de filmes finos de TiNO obtidos por MOCVD


Autoria(s): Desconhecido
Cobertura

I

Data(s)

17/11/2014

18/11/2014

01/04/2015

17/11/2014

18/11/2014

01/04/2015

31/12/1969

Identificador

http://hdl.handle.net/123456789/13780

Direitos

openAccess

Palavras-Chave #THIN FILMS #TITANIUM OXIDES #TITANIUM NITRIDES #COATING #THREE-DIMENSIONAL CALCULATIONS #SAMPLE PREPARATION #SCANNING ELECTRON MICROSCOPY #X-RAY DIFFRACTION
Tipo

Texto completo de evento