Caracterización eléctrica de transistores basados en nitruros


Autoria(s): González Pérez, Benito; Gámiz Pérez, Francisco; Tirado Martín, José María; García García, Javier
Data(s)

19/11/2011

19/11/2011

2007

Resumo

[ES] Los transistores más rápidos se consiguen gracias al crecimiento de diferentes semiconductores apilados. Entre los semiconductores es posible confinar una elevada concentración de electrones de alta movilidad, dando lugar a transistores con gran velocidad de respuesta. Cuando se emplea el sistema AlGaN/GaN, los enlaces interatómicos poseen un elevado carácter iónico. Estos iones generan intensos campos eléctricos internos, que inducen entre el AlGaN y el GaN una concentración de electrones de 1013 cm-2, un orden de magnitud superior a la alcanzada con otras estructuras típicas (AlGaAs/GaAs, AlGaAs/InGaAs/GaAs, GaInP/InGaAs/GaAs, etc.). En este artículo se expone un análisis de los aspectos fundamentales relacionados con la distribución de los electrones bajo la puerta de los transistores basados en nitruros.

Identificador

http://hdl.handle.net/10553/6662

231633

Idioma(s)

spa

Direitos

info:eu-repo/semantics/openAccess

Fonte

Vector Plus. Las Palmas de Gran Canaria: Fundación Universitaria, 1994- ISSN 1134-5306, n.29, 2007, p. 31

Palavras-Chave #330719 Transistores
Tipo

info:eu-repo/semantics/article