Processo de preparação de zirconia dopada e não dopada pela rota sol-gel usando nitrato de zirconila como material de partida

Processo de Preparação de Zirconia Dopada e não Dopada pela Rota Sol-Gel Usando Nitrato de Zirconila como Material de Partida compreendendo as etapas de preparação de uma solução de nitratos de zirconila e outros nitratos metálicos em solução aquosa com composto orgânico de etanol metanol ou acetona, através do controle de molaridade. Embora não limitantes, valores ideais para molaridade das soluções são: entre 1,00 e 0,29 para obtenção de pó entre 0,29 e 0,18 para obtenção de superfície recoberta e entre 0,18 e 0,13 para obtenção de filmes finos. Manter a solução a 0°C para formação de filmes finos por imersão do substrato ou monocristal com velocidade constante ("dip-coating") ou por rotação a velocidade constante ("spinning"), ou para recobrimento de superfícies metálicas através de imersões sucessivas do substrato metálico a velocidade constante ("dip-coating"). Elevar a solução a 50°C para hidrolização e formação de um gel em forma de pó, secagem de pó ou liofilização, calcinação e moagem dos aglomerados.