Materiais fotocrômicros de matriz polimérica e respectivos método de obtenção e uso


Autoria(s): Molina, Celso; Barud, Hernane da Silva; Ribeiro, Sidney José Lima; Messaddeq, Younes; Nalin, Marcelo
Contribuinte(s)

Universidade Estadual Paulista (UNESP)

Data(s)

02/09/2014

02/09/2014

26/03/2009

11/01/2011

Resumo

A presente invenção refere-se a um material compásito, de matriz polimérica, no qual são incorporados materiais fotossensiveis, notadamente heteropoliánions (polioxometalatos POMs), partícularmente ácido fosfotúngstico, ácido siíícotúngstico, ácido fosfomolíbdico e ácido silicomofíbdico, A matriz polimérica é constituída preferencialmente por acrilato, metacrilato, acetato de celulose e hidroxipropilcelulose. Refere-se também ao processo para incorporação dos agentes fotossensíveis nas matrizes políméricas e ao uso do dito produto obtido ao final do processo.

Identificador

http://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/originalDocument?CC=BR&FT=D&NR=PI0905108A2

http://hdl.handle.net/11449/109019

INPI-PI0905108-2.pdf

Idioma(s)

por

Publicador

Instituto Nacional de Propriedade Industrial (INPI)

Direitos

openAccess

Tipo

info:eu-repo/semantics/patent