Materiais fotocrômicros de matriz polimérica e respectivos método de obtenção e uso
Contribuinte(s) |
Universidade Estadual Paulista (UNESP) |
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Data(s) |
02/09/2014
02/09/2014
26/03/2009
11/01/2011
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Resumo |
A presente invenção refere-se a um material compásito, de matriz polimérica, no qual são incorporados materiais fotossensiveis, notadamente heteropoliánions (polioxometalatos POMs), partícularmente ácido fosfotúngstico, ácido siíícotúngstico, ácido fosfomolíbdico e ácido silicomofíbdico, A matriz polimérica é constituída preferencialmente por acrilato, metacrilato, acetato de celulose e hidroxipropilcelulose. Refere-se também ao processo para incorporação dos agentes fotossensíveis nas matrizes políméricas e ao uso do dito produto obtido ao final do processo. |
Identificador |
http://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/originalDocument?CC=BR&FT=D&NR=PI0905108A2 http://hdl.handle.net/11449/109019 INPI-PI0905108-2.pdf |
Idioma(s) |
por |
Publicador |
Instituto Nacional de Propriedade Industrial (INPI) |
Direitos |
openAccess |
Tipo |
info:eu-repo/semantics/patent |