Low-resistance spin-dependent tunnel junctions with HfAlOx barriers for high-density recording-head application


Autoria(s): Wang, Jianguo; Freitas, P. P.; Snoeck, E.; Batlle Gelabert, Xavier; Cuadra, J.
Contribuinte(s)

Universitat de Barcelona

Data(s)

04/05/2010

Identificador

http://hdl.handle.net/2445/8624

Idioma(s)

eng

Publicador

IEEE

Direitos

(c) IEEE, 2002

info:eu-repo/semantics/openAccess

Palavras-Chave #Espectroscòpia de raigs X #Espectroscòpia d'electrons #Compostos de metalls de transició #Electromagnetisme #Microscòpia electrònica de transmissió #Efecte túnel #X-Ray spectroscopy #Electron spectroscopy #Transition metal compounds #Electromagnetism #Transmission electron microscopy #Tunneling (Physics)
Tipo

info:eu-repo/semantics/article