Desenvolvimento de óxidos semicondutores tipo-p para aplicação em transístores de filme fino


Autoria(s): Barros, Ana Raquel Xarouco de
Contribuinte(s)

Fortunato, Elvira

Data(s)

01/04/2011

01/04/2011

2009

Resumo

Dissertação apresentada na Faculdade de Ciências e Tecnologia da Universidade Nova de Lisboa para a obtenção do grau de Mestre em Engenharia Microelectrónica e Nanotecnologias

Identificador

http://hdl.handle.net/10362/5419

Idioma(s)

por

Publicador

Faculdade de Ciências e Tecnologia

Direitos

openAccess

Tipo

masterThesis