The UV/H2O2 - photodegradation of poly(ethyleneglycol) and model compounds

The general mechanism for the photodegradation of polyethyleneglycol (PEG) by H2O2/UV was determined studying the photooxidation of small model molecules, like low molecular weight ethyleneglycols (tetra-, tri-, di-, and ethyleneglycol). After 30 min of irradiation the average molar mass (Mw) of the degradated PEG, analysed by GPC, fall to half of its initial value, with a concomitant increase in polydispersitivity and number of average chain scission (S), characterizing a random chain scission process yielding oligomers and smaller size ethyleneglycols. HPLC analysis of the photodegradation of the model ethyleneglycols proved that the oxidation mechanism involved consecutive reactions, where the larger ethyleneglycols gave rise, successively, to smaller ones. The photodegradation of ethyleneglycol lead to the formation of low molecular weight carboxylic acids, like glycolic, oxalic and formic acids.

O mecanismo geral para a fotodegradação do polietilenoglicol (PEG) usando o sistema H2O2/UV foi determinado por GPC e HPLC, analisando o comportamento de moléculas modelo, como por exemplo os etilenoglicóis de baixa massa molar (tetra-, tri-, di-, e etilenoglicol). Após 30 min de irradiação, a massa molar ponderal média (Mw) do PEG degradado, analisada por GPC, cai para metade do seu valor inicial com um aumento concomitante na polidispersidade e número médio de quebra de cadeia (S). Essa queda acentuada caracteriza uma quebra de cadeia aleatória, formando oligômeros e etilenoglicóis de menor massa molar. A análise da fotodegradação de etilenoglicóis modelo por HPLC permitiu sugerir um mecanismo que envolve processos consecutivos, em que etilenoglicóis maiores originam menores, sucessivamente. A fotodegradação do etilenoglicol formou ácidos carboxílicos de baixa massa molar, como por exemplo os ácidos glicólico, oxálico e fórmico.

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