钴离子配位分子印迹聚合物膜渗透特性研究

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Autoria(s): 马向霞; 李文友; 何锡文; 张玉奎

Data(s)	2005
Identificador	http://159.226.238.44/handle/321008/92841 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/184432
Idioma(s)	中
Direitos	2;4
Fonte	马向霞;李文友;何锡文;张玉奎.钴离子配位分子印迹聚合物膜渗透特性研究,化学学报,2005,63(18):1681-1685
Tipo	期刊论文