激光引发Cl_2和CH_2Cl_2对Cu的化学刻蚀
Data(s) |
1989
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Resumo |
本文利用氩离子激光引发的化学反应,对铜片进行刻蚀研究,给出了刻蚀速率与激光能量和工作气体压强的关系曲线,得到 Cu—Cl_2体系的光刻能量阀值低于 Cu—CH_2Cl_2体系的结果并讨论了这一差别的原因。 |
Identificador | |
Idioma(s) |
中文 |
Fonte |
燕方龙;周大凡 .激光引发Cl_2和CH_2Cl_2对Cu的化学刻蚀 ,应用激光 ,1989,9(6 ):260-262 |
Tipo |
期刊论文 |