用X-光电子能谱对热处理的四苯基铁卟啉化学修饰电极的研究


Autoria(s): 胡刚; 许莉娟; 于亚莉; 董绍俊
Data(s)

1989

Resumo

本文用XPS、DTA、和TG分析了解四苯基铁卟啉和四苯基铁卟啉化学修饰电极的热分解行为。由XPS谱图揭示了玻璃炭与四苯基铁卟啉之间的相互作用,进而阐述了经热处理的四苯基铁卟啉化学修饰电极的表面结构与电催化稳定性的关系。从四苯基铁卟啉化学修饰电极的XPS价态谱发现Fe中心离子的3d电子在电极的电催化活性中的作用。

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/40997

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/164872

Idioma(s)

中文

Fonte

胡刚;许莉娟;于亚莉;董绍俊 .用X-光电子能谱对热处理的四苯基铁卟啉化学修饰电极的研究 ,物理化学学报 ,1989,5 (1 ):33-37

Tipo

期刊论文