两步激发激光增强电离光谱分析——半导体硅中钠的测定

本工作做了方法原理性实验,给出两步与一步激发激光增强电离(LEI)光谱相比较的钠的标准曲线、检出限以及在不同钠浓度下的相对标准偏差。并将该技术应用到实际样品半导体硅中钠的测定。标准加入回收率在82～125％范围之内。实验证明该技术对实际样品分析是可行的。