HMDSO和TFM混合气体等离子体聚合膜的结构与性能


Autoria(s): 林晓; 陈捷; 徐纪平
Data(s)

1990

Resumo

在钟罩式内极反应器中进行了六甲基二硅氧烷(HMDSO)和四氟化碳(TFM)混合气体等离子体聚合。用IR、XPS、X射线对聚合膜结构进行了表征。等离子体共聚合膜中含有Si和F,聚合膜中元素组成依赖于起始混合气体单体的比,Si/C元素比随着混合气体中TFM浓度增加而减小,而F/C比增大。测定了复合膜的气体透过性,等离子体共聚合方法是制备气体分离膜的可行方法。同时,还测定了等离子体聚合膜的接触角,并计算了表面能。

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/40115

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/164431

Idioma(s)

中文

Fonte

林晓;陈捷;徐纪平 .HMDSO和TFM混合气体等离子体聚合膜的结构与性能 ,辐射研究与辐射工艺学报 ,1990,8(4):231-234

Palavras-Chave #等离子体聚合 #HMDSO #TFM #XPS #接触角 #气体分离膜
Tipo

期刊论文