高纯金属钕中镧、铈、镨、钐和钇的ICP光谱测定


Autoria(s): 袁甫; 綦文娣; 关秋荻; 陈新海
Data(s)

1991

Resumo

本文提出了用ICP-AES直接同时测定高纯金属钕中镧、铈、镨、钐和钇的新方法。描述了在钕样品溶液中加入乙醇后对测定灵敏度的影响,乙醉量的影响以及ICP的几个主要工作参数的选择等。当样品溶液中稀土元素的总浓度为5毫克/毫升,乙醇浓度为70%(V/V)时,测定下限分别为镧0.0020%,铈0.0030%,镨0.010%,钐0.0050%和钇0.0010%其相对标准偏差为2.9-5.7%。

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/39359

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/164053

Idioma(s)

中文

Fonte

袁甫;綦文娣;关秋荻;陈新海 .高纯金属钕中镧、铈、镨、钐和钇的ICP光谱测定 ,光谱实验室 ,1991,():33-37

Palavras-Chave #测定下限 #杂质元素 #纳米 #高纯金属 #稀土元素 #金属钕 #乙醇浓度 #样品分析 #谱线强度 #相对标准偏差
Tipo

期刊论文