二甲基乙烯基乙氧基硅烷等离子体聚合


Autoria(s): 周和平; 周茂堂; 王世才; 陈捷
Data(s)

1991

Resumo

在外部电极电容耦合式辉光放电装置中进行了二甲基乙烯基乙氧基硅烷(VDMES)的等离子体聚合,考察了压力、功率以及基片距离对聚合速率的影响。用红外光谱和X射线光电子能谱(XPS)等方法研究了聚合物的结构,并研究了聚合物的热稳定性及表面性能。

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/38957

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/163852

Idioma(s)

中文

Fonte

周和平;周茂堂;王世才;陈捷 .二甲基乙烯基乙氧基硅烷等离子体聚合 ,辐射研究与辐射工艺学报 ,1991,9(4):242-245

Palavras-Chave #二甲基乙烯基乙氧基硅烷 #等离子体聚合 #接触角
Tipo

期刊论文