XPS研究等离子体处理的聚苯乙烯表面结构

采用不同功率(10、20、60、100、150W)、时间(0.5、1、3、6、15和30分),在Ar、N_2、O_2、H_2和空气中,对聚苯乙烯(PS)片基进行了等离子体处理。 通过XPS技术、谱图的拟合、差谱分析和Ar~+小功率剖面处理,研究了PS表面组成与结构变化,指出处理的聚苯乙烯表面有C—O、C—NH_2、C=O、COOH和基团嵌入,因而改变了材料特性。