α-Keggin结构钼硅酸钾杂多蓝的合成与结构


Autoria(s): 王恩波; 张澜萃; 沈恩洪; 王作屏; 林永华; 金松春
Data(s)

1992

Resumo

本文用控制阴极电位电解还原方法,制得了以Si为杂原子的Keggin结构二电子、四电子杂多蓝K_2H_4[SiMo_2~ⅤMo_(10)~ⅥO_(40)]·12H_20(Ⅰ)和K_3H_5[SiMo_4~ⅤMo_8~ⅥO_(40)]·12H_2O(Ⅱ).通过IR,UV,极谱,XPS,ESR及单晶X射线衍射对所合成的杂多蓝进行了表征,确定了被还原的Mo(V)位置位于不同的边共用三金属簇内,测定结果表明,Keggin结构杂多阴离子还原后,八面体结构有轻微畸变,畸变程度随还原程度增大而增大。

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/37543

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/163034

Idioma(s)

中文

Fonte

王恩波;张澜萃;沈恩洪;王作屏;林永华;金松春 .α-Keggin结构钼硅酸钾杂多蓝的合成与结构 ,中国科学B辑:化学,1992,(7):673-682

Palavras-Chave #Keggin结构 #杂多蓝 #钼硅杂多蓝 #晶体结构
Tipo

期刊论文