掺Sb、Sn和Cd的In_2O_3的电性研究


Autoria(s): 文世杰; G.Campet; J.Portier; 洪广言
Data(s)

1993

Resumo

本文研究了掺杂Sb、S_n及Cd的In_2O_3的电性质,并与纯的In_2O_3进行比较,得到一些有意义的结果。IO的电导率及载流子浓度主要由氧缺位所致;ITO和ISO的电导率和载流子浓度,主要由掺杂元素所致;掺Sn的电导率、载流子浓度和迁移率高于掺Sb,其原因在于在同样掺杂浓度的条件下,ITO中的中性杂质浓度低于ISO及掺Sn后使电子离域程度增大。在掺Cd浓度高时,随着Cd浓度增加,电导率和载流子浓度均降低。

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/36955

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/162445

Idioma(s)

中文

Fonte

文世杰;G.Campet;J.Portier;洪广言 .掺Sb、Sn和Cd的In_2O_3的电性研究 ,功能材料 ,1993,24(4):381-384

Palavras-Chave #掺杂 #In_2O_3 #电导率
Tipo

期刊论文