等离子体改性聚三甲基甲硅烷基丙炔膜的气体透过性

研究了八氟环丁烷(OFCB)等离子体改性聚三甲基甲硅烷基丙炔(PTMSP)膜的气体透过性及等离子体处理条件对膜透气性的影响。改性膜的氧氮选择性有了显著提高。处理条件为功率250W,单体压力5.2 Pa,处理时间5min,膜的氧气透过系数和氧氮选择系数分别为1020 barrer和4.18。改性膜的表面组成用XPS谱进行了表征。XPS谱分析表明,改性膜表面形成了含氟致密薄层,氧氮选择性与F/C元素比没有直接关系。