Nafion-玻碳修饰电极阴极溶出伏安法测定痕量铋的研究


Autoria(s): 张平元; 张月霞; 刘柏峰; 董绍俊
Data(s)

1993

Resumo

研究并提出在HNO_3-NaCl-硫脲(Tu)体系中,Nafion/玻碳(Gc)修饰电极阴极溶出伏安法测定痕量鉍的方法。表明Tu具络合协同作用,使Nation阳离子交换能力提高。本法检出限为5×10~(-9)mol/L Bi~(3+)(td:5min),电极表面易于再生,文中研究了电极过程机理,计算得[Bi(Tu)_6]~(3+)在Nafion膜中的分配系数(K_D),扩散系数(D)和选择性系数(K_H~[Bi(Tu)_6~+]~(3+))分别为7.57×10~5,5.9×10~(-11)cm~2/s及3.39。

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/36491

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/161981

Idioma(s)

中文

Fonte

张平元;张月霞;刘柏峰;董绍俊 .Nafion-玻碳修饰电极阴极溶出伏安法测定痕量铋的研究 ,分析化学 ,1993,21(4 ):405-409

Palavras-Chave #Nafion膜 #化学修饰电极 #阴极溶出伏安法 #
Tipo

期刊论文