同多钼酸掺杂的聚吡咯薄膜电极的制备及表征
| Data(s) |
1994
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|---|---|
| Resumo |
用电化学聚合制备了同多钼酸掺杂的聚吡咯(IPMo/PPy)薄膜电极,这种电极在硫酸水溶液中扫描时具有良好的稳定性.用循环伏安法;X射线光电子能谱(XPS)、现场紫外可见光谱电化学及电子自旋共振波谱(ESR)对这种修饰电极进行了表征. |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
金文;詹瑞云;董绍俊 .同多钼酸掺杂的聚吡咯薄膜电极的制备及表征 ,化学学报 ,1994,52(2):144-149 |
| Palavras-Chave | #同多钼酸 #聚吡咯 #紫外可见光谱 #ESR #化学修饰电极 |
| Tipo |
期刊论文 |
