硅在cBN单晶合成中的行为
Data(s) |
1995
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Resumo |
实验制备了复合氮化物Li_8SiN_4,并对合成温度、合成时间、气流量等因素的影响以及产物的稳定性进行了讨论。研究了Li_8SiN_4作为触媒添加剂时硅在cBN单晶合成中的作用。结果表明:cBN晶体多为截角八面体,晶面致密光滑;硅参与cBN的合成反应,并以SiO_2的形式沉积在cBN表面。 |
Identificador | |
Idioma(s) |
中文 |
Fonte |
周艳平,阎学伟,赵廷河,马贤锋 .硅在cBN单晶合成中的行为 ,高压物理学报 ,1995,9(3):176-182 |
Palavras-Chave | #cBN合成 #复合氮化物 #表面形态 |
Tipo |
期刊论文 |