硅在cBN单晶合成中的行为


Autoria(s): 周艳平,阎学伟,赵廷河,马贤锋
Data(s)

1995

Resumo

实验制备了复合氮化物Li_8SiN_4,并对合成温度、合成时间、气流量等因素的影响以及产物的稳定性进行了讨论。研究了Li_8SiN_4作为触媒添加剂时硅在cBN单晶合成中的作用。结果表明:cBN晶体多为截角八面体,晶面致密光滑;硅参与cBN的合成反应,并以SiO_2的形式沉积在cBN表面。

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/27033

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/159893

Idioma(s)

中文

Fonte

周艳平,阎学伟,赵廷河,马贤锋 .硅在cBN单晶合成中的行为 ,高压物理学报 ,1995,9(3):176-182

Palavras-Chave #cBN合成 #复合氮化物 #表面形态
Tipo

期刊论文