BaLiF_3:Eu~(2+)一种新型X射线存贮材料


Autoria(s): 夏长泰; 石春山
Data(s)

1996

Resumo

BaLiF3微晶经X射线辐照所产生的热释光,在日光下照射15分钟或在室温条件下放置2~3天都会消失,表明X射线对BaLiF3微晶的辐照损伤是轻微的,易擦除的。实验还发现BaLiF3:Eu(2+)具有光激励发光特性,因此可以认为BaLiF3:Eu(2+)是一种具有潜在应用价值的新型X射线存贮材料。

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/26237

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/159098

Idioma(s)

中文

Fonte

夏长泰;石春山 .BaLiF_3:Eu~(2+)一种新型X射线存贮材料 ,功能材料与器件学报 ,1996,2 (1 ):59-63

Palavras-Chave #BaLiF_3:Eu~(2+) #ESR #TSL #PSL #X射线存贮材料
Tipo

期刊论文