杂多化合物—聚吡咯膜修饰电极的制备及电化学研究


Autoria(s): 王为清; 张秀媚; 程龙; 刘柏峰; 董绍俊
Data(s)

1996

Resumo

报道四元杂多化合物K10H3[Nd(SiMo7W4O39)2]·xH2O(简写为Nd(SiMo7W4)213-)聚吡咯(PPy)膜修饰电极的制备及其电化学性能.该电极保持了四元杂多化合物的电化学活性和电催化性能,并具有很好的稳定性,在酸性水溶液中对NO-2具有明显的催化作用.

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/26219

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/159080

Idioma(s)

中文

Fonte

王为清;张秀媚;程龙;刘柏峰;董绍俊 .杂多化合物—聚吡咯膜修饰电极的制备及电化学研究 ,电化学 ,1996,2(4):297-401

Palavras-Chave #杂多化合物 #修饰电极 #聚吡咯 #电催化
Tipo

期刊论文