热处理对尼龙1010结构影响研究
Data(s) |
1996
|
---|---|
Resumo |
采用WAXD,SAXS方法研究了热处理对尼龙1010聚集态结构的影响.结果表明,在温度为175℃左右对样品进行退火处理可获得较完善的结晶.利用Wc.x~T关系曲线外推法得到尼龙1010样品的Tg大约为58℃.根据一维电子密度相关函数法求得了系列样品在所研究条件下的结晶片层厚,过渡层厚,长周期和结晶非晶相间的密度差.得到了不同退火条件尼龙1010样品的结晶相密度ρc. |
Identificador | |
Idioma(s) |
中文 |
Fonte |
张宏放;杨宝泉;张利华;莫志深 .热处理对尼龙1010结构影响研究 ,高分子学报 ,1996,(1 ):1-5 |
Palavras-Chave | #尼龙1010 #热处理 #WAXD #SAXS |
Tipo |
期刊论文 |