Cd_2SnO_4等四种半导体薄膜制备及性能研究


Autoria(s): 王岚; 鲍崇林; 李春鸿; 王给祥
Data(s)

1997

Resumo

采用喷涂热解法制备了以Cd2SnO4为代表的四种半导体薄膜,即Cd2SDO4,In2SnO5,TiSnO4及Zn2SnO4。测试了薄膜的半导体、光学和电学性能,得到了In2SnO5,Cd2SpO4薄膜电阻率的范围在10(-3)Ω·cm和高的透射比(可见光);TiSnO4薄膜高的反射比(红外光);同时,比较溅射法对结果进行了讨论。

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/24961

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/157208

Idioma(s)

中文

Fonte

王岚;鲍崇林;李春鸿;王给祥 .Cd_2SnO_4等四种半导体薄膜制备及性能研究 ,真空科学与技术 ,1997,17 (1 ):56-60

Palavras-Chave #半导体薄膜 #光电性能 #溅射 #二氧化锡化合物 #喷涂热解法
Tipo

期刊论文