抗坏血酸自加速的圆二色谱电化学研究


Autoria(s): 吕玉娟; 朱永春; 程广金; 董绍俊
Data(s)

1999

Resumo

以现场长光程薄层圆二色光谱电化学方法研究了抗坏血酸在玻碳电极上的电极反应过程.通过双对数法和非线性回归的方法处理了薄层圆二色光谱电化学实验数据,结果表明抗坏血酸在pH7.0的缓冲溶液中玻碳电极上为2个电子转移的不可逆电化学氧化,氧化产物在电极上发生了强吸附,吸附层对抗坏血酸的电化学氧化反应有自加速作用,并获得了抗坏血酸在探电极和在吸附电极上的式电位分别为E~(?)=0.09V,E~(?)=0.26V;电子转移数和电子转移系数分别为an=0.41,a_(?)n=0.07;标准复相电子转移速率常数分别为k~0=8.0×10~(-5)cm s~(-1),k~0_a=1.9×10~(-4)cm s~(-1);吸附系数为β=102.6±0.2.

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/22117

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/155793

Idioma(s)

中文

Fonte

吕玉娟; 朱永春; 程广金; 董绍俊.抗坏血酸自加速的圆二色谱电化学研究,分析化学 ,1999,27(2 ):153-157

Palavras-Chave #现场园二色谱电化学 #抗坏血酸 #自加速过程 #长光程薄层光谱电化学池
Tipo

期刊论文