酞菁铜衍生物在酞菁铜氧化铁纳米粒子交替LB膜中的分子取向


Autoria(s): 霍丽华; 李薇; 逯乐慧; 席时权
Data(s)

2001

Resumo

通过Langmuir Blodgett技术制备了酞菁铜 氧化铁纳米粒子交替LB膜 ,利用偏振紫外 可见光谱对酞菁铜衍生物在不同制膜条件下所制得的交替膜中的分子取向进行了研究。结果表明 ,在同一氧化铁溶胶亚相中 ,随着表面压的增大 ,或在相同的表面压下 ,随着亚相中氧化铁浓度的减小 ,酞菁铜分子在其复合LB膜中倾斜程度变大。

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/21189

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/155329

Idioma(s)

中文

Fonte

霍丽华;李薇;逯乐慧;席时权.酞菁铜衍生物在酞菁铜氧化铁纳米粒子交替LB膜中的分子取向,光谱与光谱分析,2001,21(2):224-226

Palavras-Chave #分子取向 #酞菁铜衍生物 #纳米氧化铁 #LB膜
Tipo

期刊论文