高真空强静电场下聚合物薄膜微晶生长形态转变研究

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Autoria(s): 肖学山; 董远达; 乔秀颖; 莫志深; 王献红; 王庆; 徐晖

Data(s)	2001
Identificador	http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/21155 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/155312
Idioma(s)	中文
Fonte	肖学山;董远达;乔秀颖;莫志深;王献红;王庆;徐晖.高真空强静电场下聚合物薄膜微晶生长形态转变研究,高分子学报 ,2001,(2):261-264
Palavras-Chave	#静电场 #聚合物薄膜微晶 #形态
Tipo	期刊论文