恒电位电解法掺稀土对多孔硅光致发光性能的影响


Autoria(s): 石建新; 张晓霞; 田峻; 张洪杰; 曾春莲; 龚孟濂
Data(s)

2000

Resumo

研究了恒电位电解法掺稀土(Er、Nd与Yb)对多孔硅(PS)室温可见区光致发光性能的影响。结果表明:适当高浓度稀土的掺入可以提高PS的发光强度、使PS发光波长蓝移;掺入稀土浓度过高对PS的发光起猝灭作用。掺稀土可以缩短PS发光衰减的平均寿命,而不影响衰减曲线的形状。提出用“表面态辅助的量子限制效应”观点来解释PS和掺稀土多孔硅的光致发光。

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/20377

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/154923

Idioma(s)

中文

Fonte

石建新;张晓霞;田峻;张洪杰;曾春莲;龚孟濂.恒电位电解法掺稀土对多孔硅光致发光性能的影响,中国稀土学会第四届学术年会论文集,2000,():451-456

Palavras-Chave #稀土 #多孔硅 #光致发光 #表面态 #量子限制效应
Tipo

期刊论文