杂多酸-聚(二烯丙基二甲基氯化铵)多层膜在4-氨基硫酚修饰金电极上的组装和电化学行为
Data(s) |
2000
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Resumo |
通过电化学生长法在 4 氨基硫酚自组装膜修饰金电极上制备了包含杂多酸 (SiMo11VO5-4 0 和聚合物阳离子PDDA的多层膜修饰电极。用循环伏安法研究了该多层膜的电化学行为 ,结果表明Mo的第 3个还原峰随多层膜层数的增加显著增长 ,而另两个还原峰增长缓慢。该修饰电极的峰电位随pH的增加而线性负移 ,表明有氢离子参与杂多酸的氧化还原反应。该修饰电极对BrO-3 和HNO2 的还原反应有良好的催化作用 ,催化电流随着层数的增加而增长 ,并且Mo的第三个还原峰电流与CBrO-3 有良好的线性关系。 |
Identificador | |
Idioma(s) |
中文 |
Fonte |
黄正国;程龙;孙勤枢;刘柏峰;董绍俊.杂多酸-聚(二烯丙基二甲基氯化铵)多层膜在4-氨基硫酚修饰金电极上的组装和电化学行为,分析化学,2000,28 (11 ):1331-1335 |
Palavras-Chave | #电化学生长 #多层膜 #电催化 #杂多酸 |
Tipo |
期刊论文 |