发光层的形态结构对电致发光器件性能影响的研究
| Data(s) |
2000
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|---|---|
| Resumo |
详细研究了沉积在Poly( 9 vinylcarbazole) (PVK)薄膜上的 8 羟基喹啉铝 (Alq3 )薄膜的形态结构对电致发光器件ITO/PVK/Alq3 /Mg Ag性能的影响。研究结果表明 :发光层 (Alq3层 )的表面形貌极大地影响发光层和金属阴极的接触面积 ,从而影响器件的电流 电压特性。发光层的表面越均匀连续 ,发光层和金属阴极的接触面积就越大 ,通过器件的电流就越大。在三种条件的器件中 ,基底温度为 4 3 8K时制备的Alq3薄膜所对应的器件的量子效率最高 ,2 98K制备的器件的效率次之 ,77K制备的器件的效率最差。 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
秦大山;李德成;王言;张吉东;谢志元;王广;王利祥;闫东航.发光层的形态结构对电致发光器件性能影响的研究,发光学报,2000,21 (3 ):243-246 |
| Palavras-Chave | #基底温度 #形态结构 #电流密度 #量子效率 |
| Tipo |
期刊论文 |
