Y_(1.95-x)Gd_xSiO_5:Eu_(0.05)的真空紫外光谱


Autoria(s): 宋桂兰; 尤洪鹏; 洪广言; 曾小青; 甘树才; 金昌弘; 卞钟洪; 庾炳容; 裴贤淑; 权一亿; 朴哲熙
Data(s)

2000

Resumo

利用高温固相法合成了 Y1.95-xGdxSiO5:Eu0.05(x=0.6mol%)荧光体。结构测定表明所合成的荧光体为单斜晶系的X2型Y2SiO5相,空间群为B2/b。真空紫外光谱表明:随着Gd3+含量的增加,在192um附近,出现了Gd+的激发峰,且此峰的强度随着Gd3+含量的增加而增大;同时位于150~185nm之间的基质吸收带的强度也增大;而位于200~300nm之间的Eu的电行迁移带的强度却随着Gd3+含量的增加而降低。

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/19981

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/154725

Idioma(s)

中文

Fonte

宋桂兰;尤洪鹏;洪广言;曾小青;甘树才;金昌弘;卞钟洪;庾炳容;裴贤淑;权一亿;朴哲熙.Y_(1.95-x)Gd_xSiO_5:Eu_(0.05)的真空紫外光谱,发光学报,2000,21 (2 ):145-149

Palavras-Chave #Y1.95-xGdxSiO5: #Eu0.05 #真空紫外光谱 #基质吸收带
Tipo

期刊论文