低温下V2O5/AC催化NO还原: NH4HSO4在催化剂表面的分解和反应性


Autoria(s): 朱珍平; 刘振宇; 牛宏贤; 刘守军
Data(s)

09/04/2011

Identificador

http://ir.sxicc.ac.cn/handle/0/3629

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/153828

Idioma(s)

中文

Fonte

朱珍平,刘振宇,牛宏贤,刘守军.低温下V2O5/AC催化NO还原: NH4HSO4在催化剂表面的分解和反应性.见:第十届全国催化会议.张家界.2000.

Tipo

会议论文