纳米碳管催化CVD工艺中多物理场的耦合模拟分析

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Autoria(s): 赵建国; 刘朗; 郭全贵; 史景利; 翟更太

Data(s)	2007
Identificador	http://ir.sxicc.ac.cn/handle/0/3877 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/150121
Idioma(s)	中文
Fonte	赵建国,刘朗,郭全贵,史景利,翟更太.纳米碳管催化CVD工艺中多物理场的耦合模拟分析.材料工程,2007,增刊1:11-14
Tipo	期刊论文