PI薄膜在炭化和石墨化过程中表面结构的喇曼散射研究

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Autoria(s): 赵根祥; 钱树安

Data(s)	1998
Identificador	http://ir.sxicc.ac.cn/handle/0/3284 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/149418
Idioma(s)	中文
Fonte	赵根祥,钱树安.PI薄膜在炭化和石墨化过程中表面结构的喇曼散射研究.高分子材料科学与工程,1998,14(1):101-103
Tipo	期刊论文