齐聚[3,2-b]并二噻吩的合成、表征及其在有机薄膜晶体管中的应用


Autoria(s): 杨宝麟; 田洪坤; 宋德; 闫东航; 耿延候; 王佛松
Data(s)

2009

Resumo

通过Stille偶联反应合成了5,5″-二辛基-2,2′∶5′2″-三联[3,2-b]并二噻吩,并对该化合物的物理化学性质以及真空蒸镀薄膜的结构和形貌进行了详细表征.以这一化合物作为半导体层、采用顶电极结构制备了有机薄膜晶体管,并对薄膜生长基底温度做了优化,发现基底温度为100℃时器件性能最好,迁移率达到0.13 cm2/V.s,开关比为7×103,阈值电压为-19V.

Identificador

http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/11461

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/147969

Idioma(s)

中文

Fonte

杨宝麟;田洪坤;宋德;闫东航;耿延候;王佛松.齐聚[3,2-b]并二噻吩的合成、表征及其在有机薄膜晶体管中的应用,分子科学学报,2009,25(3):153-157

Palavras-Chave #[3 #2-b]并二噻吩 #有机半导体 #有机薄膜晶体管
Tipo

期刊论文