磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究


Autoria(s): 张文杰; 朱圣龙; 李瑛; 王福会; 何红波
Data(s)

15/03/2009

Resumo

采用混合靶直流磁控反应溅射法,在玻璃基体上溅射沉积了含有氧化钇的TiO2薄膜。X-射线光电子能谱分析结果表明,薄膜是由Y2O3和TiO2复合氧化物组成的。钇的存在会抑制薄膜中二氧化钛晶体的形成。薄膜的紫外可见光谱透射率略有下降,而反射率有所增加。钇的掺杂对二氧化钛薄膜的光催化活性起负作用,光催化降解甲基橙反应的活性随钇含量的增加而下降。

Identificador

http://210.72.129.5/handle/321005/48352

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/138039

Idioma(s)

中文

Fonte

张文杰;朱圣龙;李瑛;王福会;何红波;.磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究,电镀与精饰,2009-03-15,(03):157-160

Palavras-Chave #TiO2薄膜 #磁控反应溅射 #钇掺杂 #光催化活性 #降解
Tipo

期刊论文