Cr/Al系统的离子束混合


Autoria(s): 刘惠珍
Contribuinte(s)

吴美珍

Data(s)

1988

Resumo

用600kev的kr~+对Cr/Al薄膜系统进行了离子束混合研究。实验样品是在单晶硅上蒸镀约5000 A厚的铝膜,相继再上所需不同厚度的铬膜。Kr~+注入剂量范围在2.0 * 10~(15)~2.5 * 10~(16) kr~+/cm~2之间。用2.0 Mev的α粒子对注入前后的样品进行了背散射分析,发现铝谱的前沿和铬谱的后沿有明显的展宽,且随剂量的增大而加宽,Cr/Al界面原子混合扩展量的平方α~2注入剂量φ成线性关系;当注入剂量大于1.0 * 10~(16) kr~+/cm~2时,铝谱前沿和铬谱的后沿出现有明显的平坦,经理论拟合计算,发现有化合物形成,x射线衍射实验结果证明化合物形式为Al_(13)Cr_2。本文还得到了混合量Q与剂量的线性关系。最后,对混合机制进行了讨论

Identificador

http://ir.impcas.ac.cn/handle/113462/6674

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/133577

Idioma(s)

中文

Fonte

刘惠珍.Cr/Al系统的离子束混合.[硕士学位论文].中科院近代物理研究所.1988

Tipo

学位论文