分子镀法制备厚镅(~(241,243)Am)靶
Data(s) |
20/11/2000
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Resumo |
研究了异丙醇 -硝酸介质中镅 ( 2 4 1,2 4 3Am)的分子镀过程和实验条件。在保持电压为 550 V、电流密度为 4~ 6m A/ cm2 的条件下电镀 1h,通过一次分子镀过程就能在薄铝箔 (厚度 7μm)衬底材料上制备出厚度为 0 .6~ 1.2 mg/ cm2的 2 4 1,2 4 3Am靶。 |
Identificador | |
Idioma(s) |
中文 |
Fonte |
秦芝,郭俊盛,甘再国.分子镀法制备厚镅(~(241,243)Am)靶, 同位素, 2000-11-20, 2000( 04):209-214 |
Palavras-Chave | #分子镀 #厚镅靶 #~(241 #243)Am |
Tipo |
期刊论文 |