RIBLL大面积真空镀膜装置


Autoria(s): 王猛,陈志强,詹文龙,郭忠言,肖国青,王金川,王全进,李加兴,宁振江,王建松,王建峰,王贵文,周嗣信
Data(s)

20/01/2001

Resumo

描述了一台大面积双叠层阳极在 X、Y方向分条读出气体电离室而发展的大面积真空镀膜装置。镀膜腔体内体积为 990 mm× 780 mm× 780 mm。可镀膜面积最大为 960 mm× 750 mm。用该装置为RIBLL电离室镀阴极、X阳极、Y阳极和窗 ,镀膜面积 4 4 0 mm× 160 mm,Mylar膜厚 3.2 6μm,镀银 97.2 7nm,镀银厚度不均匀度为 18.91%。用它制作的 RIBLL电离室的阳极、阴极 ,当电离室工作气压2 5k Pa P10气体 ,阳极电压 2 2 0 V,阴极电压 - 160 0 V时 ,对 5.15Me Vα源测量能量分辨率为 4 .2 %。

Identificador

http://ir.impcas.ac.cn/handle/113462/4915

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/131733

Idioma(s)

中文

Fonte

王猛,陈志强,詹文龙,郭忠言,肖国青,王金川,王全进,李加兴,宁振江,王建松,王建峰,王贵文,周嗣信.RIBLL大面积真空镀膜装置, 核电子学与探测技术, 2001-01-20, 2001( 01):51-55

Palavras-Chave #大面积 #双叠层阳极电离室 #分条阳极 #厚度不均匀度
Tipo

期刊论文