全反射X荧光分析技术及其应用
| Data(s) |
20/05/2002
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| Resumo |
介绍了自行研制的一种目前应用尚少的基于全反射原理的 X荧光 (TXRF)分析装置。该装置最低检测限 ,对于 Cu靶、Mo靶达到 pg级 ,其相对检测达到 10 -12 。使用该装置对某公司的高盐的镍电解液中的痕量元素采取阴离子交换树脂富集分离的方法 ,进行分析 ,给出了比较满意的结果 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
王国栋,谭继廉,付克明,田宇.全反射X荧光分析技术及其应用, 核电子学与探测技术, 2002-05-20, 2002( 03):268-271 |
| Palavras-Chave | #全反射X荧光分析 #镍电解液 #阴离子树脂 #痕量元素 |
| Tipo |
期刊论文 |
